高纯铝
高纯铝（Al01）具有高导电性，作为 LED 芯片反射膜、磁控溅射镀膜靶材和电子束蒸发镀膜材料使用，可提供 4N、5N、5N5 等纯度等级。
高纯铝具有高导电性，广泛应用在半导体行业，作为 LED 芯片反射膜、磁控溅射镀膜靶材和电子束蒸发镀膜材料使用。可提供 4N、5N、5N5 等纯度等级，有立方体和锥台两种形态。
规格参数
| 产品型号 | 形状 | 规格 | 熔点 | 密度 | 热导率 | 执行标准 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Al01 | 立方体 Cube | (3~6)±0.1 mm 三边等长 | 660℃ | 2.70 g/cm³ | 237 W/(m·K) | GB/T 26023-2010 |
| 锥台 Cone frustum | 上底φ48±0.1 / 下底φ52±0.1 / 高 22±0.1 mm |
5N 纯度主要杂质控制：Al≥99.9995%，Cu≤0.00028%、Si≤0.00025%、Fe≤0.00025% 等，杂质总量 ≤0.0005%。
应用领域：LED 芯片反射膜、磁控溅射靶材、电子束蒸发镀膜、集成电路互连。
以上为典型规格，可按客户要求定制规格、纯度与包装重量。
