高纯镍
高纯镍（Ni01）应用于电子元件、电池、靶材等多个领域，主要作为半导体靶材用于薄膜沉积等工艺，可提供 4N、4N5 等纯度等级。
高纯镍应用于电子元件、电池、靶材等多个领域，主要作为半导体靶材，用于薄膜沉积等工艺。可提供 4N、4N5 等纯度等级，有立方体和锥台两种形态。
规格参数
| 产品型号 | 形状 | 规格 | 熔点 | 密度 | 热导率 | 执行标准 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Ni01 | 立方体 Cube | 4±0.1 mm 三边等长 | 1453℃ | 8.90 g/cm³ | 91.7 W/(m·K) | GB/T 26016-2021 |
| 锥台 Cone frustum | 上底φ48±0.1 / 下底φ52±0.1 / 高 22±0.1 mm |
应用领域：半导体薄膜沉积靶材、电子元件、镀膜装饰、电池材料。
以上为典型规格，可按客户要求定制规格、纯度与包装重量。
