高纯铜
高纯铜（Cu01）纯度≥99.999%，具有良好的导电性、延展性、抗腐蚀能力和表面性能，作为磁控溅射镀膜靶材和电子束蒸发镀膜材料广泛应用于半导体行业。
高纯铜具有良好的导电性、延展性、抗腐蚀能力和表面性能，作为磁控溅射镀膜靶材和电子束蒸发镀膜材料广泛应用于半导体行业。
规格参数
| 产品型号 | 含铜量 | 形状 | 规格 | 熔点 | 密度 | 热导率 | 执行标准 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Cu01 | ≥99.999% | 圆柱体 Cylinder | φ(3~6)±0.2 / 长 3~5±0.5 mm | 1083.4℃ | 8.96 g/cm³ | 401 W/(m·K) | GB/T 26017-2020 |
应用领域：磁控溅射镀膜靶材、电子束蒸发镀膜、半导体互连布线。
以上为典型规格，可按客户要求定制规格、纯度与包装重量。
